Substrato de MgF2
Descrición
O MgF2 úsase como lente, prisma e xanela para lonxitudes de onda de 110 nm a 7,5 μm.É un material máis axeitado como fiestra para ArF Excimer Laser, pola súa boa transmisión a 193 nm.Tamén é eficaz como polarizador óptico na rexión ultravioleta.
Propiedades
| Densidade (g/cm).3） | 3.18 |
| Punto de fusión (℃) | 1255 |
| Condutividade térmica | 0,3 Wm-1K-1 a 300K |
| Expansión térmica | 13,7 x 10-6 /℃ eixe c paralelo 8,9 x 10-6 /℃ eixe c perpendicular |
| Dureza Knoop | 415 con penetrador de 100 g (kg/mm2) |
| Capacidade calorífica específica | 1003 J/(kg.k) |
| Constante dieléctrica | 1,87 en eixe c paralelo de 1 MHz 1,45 a 1 MHz do eixe c perpendicular |
| Módulo Youngs (E) | 138,5 GPa |
| Módulo de corte (G) | 54,66 GPa |
| Módulo a granel (K) | 101,32 GPa |
| Coeficiente elástico | C11=164;C12=53;C44=33,7 C13=63;C66=96 |
| Límite elástico aparente | 49,6 MPa (7200 psi) |
| Relación de Poisson | 0,276 |
Definición do substrato MgF2
O substrato de MgF2 refírese a un substrato feito de material cristalino de fluoruro de magnesio (MgF2).O MgF2 é un composto inorgánico composto por elementos de magnesio (Mg) e flúor (F).
Os substratos de MgF2 teñen varias propiedades notables que os fan populares nunha variedade de aplicacións, especialmente nos campos da óptica e a deposición de películas finas:
1. Alta transparencia: MgF2 ten unha excelente transparencia nas rexións ultravioleta (UV), visible e infravermella (IR) do espectro electromagnético.Ten un amplo rango de transmisión desde o ultravioleta a uns 115 nm ata o infravermello a uns 7.500 nm.
2. Baixo índice de refracción: o MgF2 ten un índice de refracción relativamente baixo, o que o converte nun material ideal para revestimentos e ópticas AR, xa que minimiza as reflexións non desexadas e mellora a transmisión da luz.
3. Baixa absorción: o MgF2 presenta unha baixa absorción nas rexións espectrais ultravioleta e visible.Esta propiedade faino útil en aplicacións que requiren unha gran claridade óptica, como lentes, prismas e fiestras para raios ultravioleta ou visibles.
4. Estabilidade química: o MgF2 é químicamente estable, resistente a unha ampla gama de produtos químicos e mantén as súas propiedades ópticas e físicas nunha ampla gama de condicións ambientais.
5. Estabilidade térmica: MgF2 ten un alto punto de fusión e pode soportar altas temperaturas de traballo sen degradación significativa.
Os substratos de MgF2 úsanse habitualmente en revestimentos ópticos, procesos de deposición de películas finas e fiestras ou lentes ópticas en varios dispositivos e sistemas.Tamén poden servir como capas tampón ou plantillas para o crecemento doutras películas finas, como materiais semicondutores ou revestimentos metálicos.
Estes substratos prodúcense normalmente utilizando técnicas como a deposición de vapor ou métodos físicos de transporte de vapor, onde o material de MgF2 se deposita nun material de substrato axeitado ou se cultiva como un só cristal.Dependendo dos requisitos da aplicación, os substratos poden estar en forma de obleas, placas ou formas personalizadas.
