Substrato LiAlO2

O substrato LiAlO2 refírese a un substrato feito de óxido de litio y aluminio (LiAlO2).LiAlO2 é un composto cristalino pertencente ao grupo espacial R3m e ten unha estrutura cristalina triangular.

Os substratos de LiAlO2 utilizáronse nunha variedade de aplicacións, incluíndo o crecemento de películas finas, capas epitaxiais e heteroestruturas para dispositivos electrónicos, optoelectrónicos e fotónicos.Debido ás súas excelentes propiedades físicas e químicas, é especialmente axeitado para o desenvolvemento de dispositivos semicondutores de banda ampla.

Unha das principais aplicacións dos substratos de LiAlO2 está no campo dos dispositivos baseados en nitruro de galio (GaN), como os transistores de alta mobilidade electrónica (HEMT) e os diodos emisores de luz (LED).O desaxuste da rede entre LiAlO2 e GaN é relativamente pequeno, polo que é un substrato axeitado para o crecemento epitaxial de películas finas de GaN.O substrato LiAlO2 proporciona un modelo de alta calidade para a deposición de GaN, o que resulta en un mellor rendemento e fiabilidade do dispositivo.

Os substratos de LiAlO2 tamén se utilizan noutros campos como o crecemento de materiais ferroeléctricos para dispositivos de memoria, o desenvolvemento de dispositivos piezoeléctricos e a fabricación de baterías de estado sólido.As súas propiedades únicas, como a alta condutividade térmica, a boa estabilidade mecánica e a baixa constante dieléctrica, danlles vantaxes nestas aplicacións.

En resumo, o substrato LiAlO2 refírese a un substrato feito de óxido de litio y aluminio.Os substratos de LiAlO2 utilízanse en varias aplicacións, especialmente para o crecemento de dispositivos baseados en GaN e o desenvolvemento doutros dispositivos electrónicos, optoelectrónicos e fotónicos.Posúen propiedades físicas e químicas desexables que os fan axeitados para a deposición de películas finas e heteroestruturas e melloran o rendemento do dispositivo.